您的位置:首页 >每日动态 >

SK海力士计划开发4F2结构DRAM以缩减成本

【SK海力士计划开发4F2结构DRAM以缩减成本】SK海力士宣布计划开发4F2结构(垂直栅)的DRAM,就像其竞争对手三星一样。 SK海力士研究员指出,自1c DRAM商业化以来,极紫外 (EUV) 工艺的成本一直在快速上升,现在是时候质疑使用EUV制造DRAM是否有利可图了。

免责声明:本文由用户上传,如有侵权请联系删除!